Dünnschicht-Abscheidungsprozesse sind auf eine stabile, reproduzierbare und schnelle Gasflusssteuerung für Sputter- und Prozessgase angewiesen. Das richtige Massenflussprodukt bietet entscheidende Vorteile für eine hohe Abscheidungsleistung.
In der Beschichtungskammer (in der Regel unter nahezu vakuumähnlichen Bedingungen) müssen neben der Gasmatrix eine Reihe von Parametern gleichzeitig und genau kontrolliert werden, zum Beispiel Temperatur und Druck. Weil diese Parameter voneinander abhängig sind, ist eine schnelle Reaktionszeit des Massenflussreglers die Grundlage für eine hohe Beschichtungseffizienz. Nicht zuletzt ist die langzeitstabile Leistung von entscheidender Bedeutung, um Abweichungen der Filmeigenschaften im Laufe der Zeit zu vermeiden.