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Industrie und Sicherheit

Halbleiter-Fabrikation

In der Halbleiterfertigung wie auch für die chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapor Deposition CVD) nimmt die Überwachung der Gaskonzentration und deren Zusammensetzung eine zentrale Rolle ein.

Bei der Halbleiterfertigung werden Ätzmittel mit nichtdispersiver Infrarottechnologie (NDIR) ermittelt und die erhaltenen Daten für die verfahrenstechnische Überwachung genutzt.

Für CVD- Beschichtungsverfahren wie die metallorganische Gasphasenabscheidung (MOCVD) wird die nichtdispersive Infrarottechnologie (NDIR) erfolgreich für die Zuführung flüssiger Ausgangsmaterialien genutzt.

NDIR ist die bevorzugte Methode für IR-absorbierende Gase im mittleren IR-Bereich, und liefert höchste Detektivität sowie stabile Messleistungen über lange Zeiträume.

EMIRS200

Chip auf TO-Sockel

EMIRS200 auf TO39

仅带芯片的光源

Kundenspezifisch

EMIRS200 auf TO39 mit kundenspezifischem Aufbau (besonderer Reflektor, Flex-print usw.)

客户定制

TO39 mit Kappe

EMIRS200 auf TO39 mit Metallkappe

带有保护帽 的TO39封装

TO39 mit Reflektor1

EMIRS200 auf TO39 mit Reflektor1 (Brennweite 5...15 mm) und 4 Arten von Fenstern

带有反射面1的TO39封装

TO39 mit Reflektor2

EMIRS200 auf TO39 mit Reflektor2 (Brennweite 0...7 mm)

带有反射面2的TO39封装

TO39 mit Reflektor3

EMIRS200 auf TO39 mit Reflektor3 (Brennweite 10...30 mm) und 2 Arten von Fenstern

带有反射面3的TO46封装

TO39 mit Reflektor4

EMIRS200 auf TO39 mit Reflektor4 (Brennweite 10...30 mm) und 4 Arten von Fenstern

带有反射面4的TO46封装

EMIRS50

Chip auf TO-Sockel

EMIRS50 auf TO46 Basisversion (Chip auf TO-Sockel)

仅带芯片的光源

Kundenspezifisch

EMIRS50 auf TO46 Kundenspezifisch

客户定制

TO46 mit Kappe

EMIRS50 auf TO46 mit Kappe

带有保护帽的TO46封装

TO46 mit Reflektor 5

EMIRS50 auf TO46 mit Reflektor5 und optionalem Saphir- oder BaF2-Fenster

带有反射面5的TO46封装

TO46 mit Reflektor6

EMIRS50 auf TO46 mit Reflektor6 ohne Fenster - rückseitig belüftet

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